半导体出产中发生的含砷废水一般包括As(III)和As(V)两种形状，具有浓度高、毒性大等特色。砷化合物多尴尬降解物质，需求废污水处理技能进行相对有用去除。
预处理阶段：首要选用物理化学方法来进行预处理，如混凝沉积、气浮等，去除废水中的悬浮物和部分砷化合物，下降废水的浑浊度和砷负荷。
化学沉积法：在含砷废水中投加化学沉积剂，使砷转化尴尬溶的砷化合物，如硫化砷、铁砷化合物，然后经过沉积别离去除。此外，也可选用络合沉积法，使用特定的螯合剂与砷构成安稳的络合物沉积分出。
氧化还原法：关于As(III)形状的砷，可先经过氧化剂将其转化为易于处理的As(V)，常用的氧化剂有氯气、臭氧、过氧化氢等。然后，选用上述的化学沉积法进行处理。
吸附法：使用活性炭、沸石、硅藻土等吸附剂对砷进行吸附，特别关于低浓度含砷废水有较好的处理作用。
膜别离技能：如反渗透、纳滤等，能够高效地截留废水中的砷离子，完成砷的深度去除。
生物法：虽然生物法在含砷废水净化处理中的使用尚处于研讨阶段，但已有研讨标明某些特别菌种具有耐砷和降解砷的才能，如经过生物吸附、生物转化等途径去除砷。
高档氧化技能：如电化学氧化、Fenton氧化、光催化氧化等，经过发生强氧化性的羟基自由基，将砷化合物完全氧化为易于沉积的形状